第259章 突破14nm光刻机工艺(第2 / 4页)
陈序被夸的有些不好意思了,呵呵笑着没说话。
一个小时后,下来考察调研的领导及随行人员乘坐考斯特离开了,陈序回到办公室直接瘫坐在了沙发里,说:“感觉比做十天实验还累。”
跟进来的中星微电子总负责人张海春,笑呵呵道:“一般搞学术的人,都不怎么喜欢这种场合,等以后习惯了应该会好一些。”
张海春是光刻机领域的大牛级人物,曾先后在ASML及台积电工作,甚至还被SMEE聘请为高级总工程师,不过后来因为某些原因离职了。
他在国际学术圈的地位比周东林还牛掰。
陪同着一起超前的陈序,谦虚道:“总L过奖了,我们还有很多不足的地步。”
首长亲切的拍拍他肩膀,然后顺着参观台上设立的透明甬道朝前走去,边走边看,同时问道:“那目前主要还有哪些困难呢?”
“主要就是机械精度方面有待提高…它里面有两个同步运动的工件台,一个载底片,一个载胶片,两者需要始终同步,误差要在2nm以下,而两个工作台由静到动,加速度跟导弹发射差不多……”
孙立群抢着介绍了一番后,首长转头问右侧的陈序,“小陈你估计多长时间能研制成功?”
陈序组织了一下语言说:“如果一切顺利的话,大概今年底吧!”
“呵呵,也许吧。”陈序说着坐起来点了一根烟,“超精密工件台的实验怎么样了?”
“不怎么理想,目前实验最多只能到5nm,距离要求的2nm还有一定的差距,德国跟日苯那边……”
说完陈序又跟到:“因为是第一次做没经验,再加上一些关键性的零部件被卡了脖子,只能通过自主研发。不过等到7nm时应该会很轻松。”
首长闻言有些讶异道:“7nm?”
孙立群再次抢着介绍道:“总L您没听错,正是7nm。
我们和星海在研发14nm以及10nm的同时也在布局7nm,而且我们的7nm技术跟国外的稍稍有些不同……”
首长听完后点点头,再次伸手拍拍陈序的手臂,“嗯,你是好样的!”